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          用于碳化硅衬底的CMP浆料产品

          Ferro是全球领先的优化高纯泥浆制造商,旨在为金属CMP(化学机械平面化)应用提供最佳性能。

          硅片抛光浆- ferro CMP硅片抛光浆
            Ferro产品线为碳化硅基板提供了广泛的水性CM泥浆,开发这些泥浆可实现最佳的金属CMP去除率,从而降低拥有成本,提高利用现有设备和空间的生产率。
            SN12500 - 碳化硅基材的散装清除浆料
            抛光性能
            SN12500散装中CMP浆料的抛光性能和硅晶片和碳化硅基材
            SN12500 SIC散装抛光浆
            • 磨料:al.2O.3.
            • pH值:8 ~ 10
            • 1套包装(内含氧化剂)
            • 可回收的
            • 推荐Suba 800 like pad
            • RA = 0.7〜0.9Å(AFM)
            • 没有划痕(激光技术)

            碳化硅基板用抛光浆
            抛光性能
            抛光性能SN12001硅晶片和碳化硅基材的精细抛光浆料
            SN12001 SIC精细抛光浆料
            • 磨料:硅胶
            • pH值:8 ~ 10
            • 2-kit包装,在使用前混合两部分
            • 氧化剂:使用前添加氧化剂
            • 可回收的
            • 推荐软抛光垫
            • Ra = 0.6〜0.7Å(AFM)
            我们还与客户合作,设计定制的抛光产品,为特定应用所需的定制性能。
            电子材料增值服务

            增值服务
            Ferro的研究,开发和分析资源拥有超过40年的表面整理体验,使我们能够开发独特的抛光剂和磨料,用于抛光各种基板,包括塑料,玻璃,汽车透明大衣和蓝宝石。

            我们对磨料粒子开发和制造技术的专业知识使我们能够优化为客户提供各种抛光应用提供最佳解决方案所需的物理和化学性质。